Composition, kit, and treatment method for substrate
WO2021005980
Art A1
14. Januar 2021
Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021005980
- Aktenzeichen
- EP20836493
- Anmeldetag
- 17. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D3/04C11D3/26C11D3/28C11D3/39C11D3/43C11D7/04C11D7/32C11D7/38C11D7/50H01L21/304H01L21/308H01L21/3213H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
21.764 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.