Methods of alignment, overlay, configuration of marks, manufacturing of patterning devices and patterning the marks

WO2021008794 Art A1 21. Januar 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021008794
Aktenzeichen: EP20733261
Anmeldetag: 15. Juni 2020
Veröffentlichung: 21. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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