Production method for semiconductor device, substrate treatment device, and program

WO2021009838 Art A1 21. Januar 2021

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021009838
Aktenzeichen
EP19937964
Anmeldetag
16. Juli 2019
Veröffentlichung
21. Januar 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31C23C16/455H01L21/318
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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