Substrate processing method, pattern forming method, and substrate processing system

WO2021010370 Art A1 21. Januar 2021

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021010370
Aktenzeichen: EP20839688
Anmeldetag: 13. Juli 2020
Veröffentlichung: 21. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20C23C18/42H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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