High-current ion implanter and method for controlling ion beam using high-current ion implanter

WO2021011156 Art A1 21. Januar 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021011156
Aktenzeichen: EP20841204
Anmeldetag: 23. Juni 2020
Veröffentlichung: 21. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/12H01J37/147H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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