Modulation of oxidation profile for substrate processing

WO2021011950 Art A1 21. Januar 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021011950
Aktenzeichen: EP20840970
Anmeldetag: 9. Juli 2020
Veröffentlichung: 21. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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