Sputtering target member for non-magnetic layer formation

WO2021014760 Art A1 28. Januar 2021

Anmelder: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021014760
Aktenzeichen: EP20843903
Anmeldetag: 29. Mai 2020
Veröffentlichung: 28. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/738G11B5/84H01F10/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von