Substrate etching method for titanium-based dimension stabilization type anode

WO2021017104 Art A1 4. Februar 2021

Anmelder: NORTHEASTERN UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021017104
Aktenzeichen
EP19940048
Anmeldetag
10. September 2019
Veröffentlichung
4. Februar 2021
Rechtsraum
WO
IPC
C23F1/26C25C7/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NORTHEASTERN UNIVERSITY
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Northeastern University

Die Northeastern University (chinesisch Dongbei Daxue) ist eine staatliche Universität in Shenyang, China, mit Schwerpunkten in Ingenieurwissenschaften, Werkstofftechnik und Informationstechnologie.

494 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen