Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls aus Silizium Gemäss der Czochralski-Methode aus einer Schmelze
WO2021018502
Art A1
4. Februar 2021
Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021018502
- Aktenzeichen
- EP20736628
- Anmeldetag
- 1. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/14C30B15/20C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SILTRONIC AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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