Gasverteiler für einen Cvd-Reaktor

WO2021018693 Art A2 4. Februar 2021

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021018693
Aktenzeichen: EP20745176
Anmeldetag: 22. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455F15D1/02F15D1/00F15D1/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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