Monomer, resin for photoresist, resin composition for photoresist, and pattern forming method

WO2021019942 Art A1 4. Februar 2021

Anmelder: DAICEL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021019942
Aktenzeichen: EP20846898
Anmeldetag: 18. Juni 2020
Veröffentlichung: 4. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/28G03F7/039C07D307/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DAICEL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Daicel Corporation

Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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