Composition, silicon-containing film, method for forming silicon-containing film and method for processing semiconductor substrate

WO2021020091 Art A1 4. Februar 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021020091
Aktenzeichen: EP20848204
Anmeldetag: 13. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/26C08G77/50C09D9/00C08L83/08C09D183/05C09D183/08G03F7/11G03F7/26G03F7/42H01L21/027H01L21/3065H01L21/312H01L21/316H01L21/318

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Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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