Composition for removing photoresist

WO2021020410 Art A1 4. Februar 2021

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC., MITSUBISHI GAS CHEMICAL TRADING, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021020410
Aktenzeichen: EP20846661
Anmeldetag: 29. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/42H01L21/027H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
MITSUBISHI GAS CHEMICAL TRADING, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von