Dimension measurement device, dimension measurement method, and semiconductor manufacturing system
WO2021024402
Art A1
11. Februar 2021
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021024402
- Aktenzeichen
- EP19940669
- Anmeldetag
- 7. August 2019
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B15/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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