Chemically amplified positive photosensitive resin composition, photosensitive dry film, production method for photosensitive dry film, production method for patterned resist film, and production method for compound, photo-acid generator, and n organosulfonyloxy compound

WO2021024925 Art A1 11. Februar 2021

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021024925
Aktenzeichen: EP20849276
Anmeldetag: 30. Juli 2020
Veröffentlichung: 11. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07D221/14C07D411/12C07D497/08C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von