Semiconductor device to which charge-plasma effect is applied and method for manufacturing same

WO2021025247 Art A1 11. Februar 2021

Anmelder: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021025247
Aktenzeichen: EP20850432
Anmeldetag: 20. Januar 2020
Veröffentlichung: 11. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/417H01L21/02H01L21/04H01L21/8234H01L29/06H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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