Semiconductor hot-spot and process-window discovery combining optical and electron-beam inspection
WO2021026282
Art A1
11. Februar 2021
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021026282
- Aktenzeichen
- EP20849508
- Anmeldetag
- 6. August 2020
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G01N21/95
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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