Coated metal alloy substrate and process for production thereof

WO2021026735 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021026735
Aktenzeichen: EP19941713
Anmeldetag: 12. August 2019
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/42C25D11/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Hewlett-Packard

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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