Method for training machine learning model for improving patterning process

WO2021028228 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021028228
Aktenzeichen: EP20750628
Anmeldetag: 30. Juli 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20G06N3/04G06N3/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von