Lithographic apparatus and ultraviolet radiation control system

WO2021028295 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021028295
Aktenzeichen: EP20754203
Anmeldetag: 5. August 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01J1/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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