Laser System For Source Material Conditioning in an Euv Light Source

WO2021028592 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021028592
Aktenzeichen: EP20757883
Anmeldetag: 14. August 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von