Compound, polymer, composition, composition for film formation, pattern forming method, method for forming insulating film, method for producing compound, iodine-containing vinyl polymer and method for producing acetylated derivative of same

WO2021029395 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021029395
Aktenzeichen: EP20852972
Anmeldetag: 7. August 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C25/24C07C39/27C07C39/373C07C45/63C08F12/16C07C17/35C07C37/00C07C37/62C07C49/825G03F7/039G03F7/20C07C67/08C07C69/157C07C69/712C07C69/96

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von