Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

WO2021029422 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021029422
Aktenzeichen: EP20852121
Anmeldetag: 12. August 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C57/04C07C57/145C07C63/20C07C63/72C07C381/12C07C49/92C07F7/00G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von