Model based control of wafer non-uniformity

WO2021030833 Art A1 18. Februar 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021030833
Aktenzeichen: EP20853280
Anmeldetag: 7. August 2020
Veröffentlichung: 18. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N21/95

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: LAM RESEARCH CORPORATION
NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von