Cleaning composition, rinsing liquid, cleaning kit, cleaning object production method and semiconductor element production method

WO2021033654 Art A1 25. Februar 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021033654
Aktenzeichen: EP20854865
Anmeldetag: 17. August 2020
Veröffentlichung: 25. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C11D7/26C11D7/34C11D7/36C11D7/50H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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