Plasma etching method
WO2021033884
Art A1
25. Februar 2021
Anmelder: AJOU UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUN 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021033884
- Aktenzeichen
- EP20855246
- Anmeldetag
- 1. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065H01L21/311C09K13/00H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AJOU UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUN
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Ajou University Industry-Academic Cooperation Foundation
Die Ajou University Industry-Academic Cooperation Foundation ist die Patentverwertungsstelle der südkoreanischen Ajou-Universität. Das Portfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma/Biotechnologie, ergänzt durch Mess- und Softwaretechnik. Die Titel reichen von Motorüberspannungsschutz bis zur Bodenfeuchteschätzung mittels Mikrowellen.
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