Design-assisted inspection for dram and 3d nand devices

WO2021034623 Art A1 25. Februar 2021

Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021034623
Aktenzeichen: EP20855055
Anmeldetag: 13. August 2020
Veröffentlichung: 25. Februar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N21/95H01L27/115H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KLA CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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