Method of controlling a position of a first object relative to a second object, control unit, stage apparatus and lithographic apparatus.

WO2021037453 Art A1 4. März 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021037453
Aktenzeichen: EP20743706
Anmeldetag: 24. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00G05B19/19H01L21/67H01L21/68G06T7/00G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Steuerungs- & Regelungstechnik

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