End facet protection for a light source and a method for use in metrology applications

WO2021037472 Art A1 4. März 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021037472
Aktenzeichen: EP20744081
Anmeldetag: 29. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/35G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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