Semiconductor device geometry method and system

WO2021037484 Art A1 4. März 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021037484
Aktenzeichen: EP20751116
Anmeldetag: 31. Juli 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06N20/00G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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