Method, apparatus, and system for wafer grounding

WO2021037827 Art A1 4. März 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021037827
Aktenzeichen
EP20761797
Anmeldetag
25. August 2020
Veröffentlichung
4. März 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/317H01J37/20H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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