Overlay measurement system and overlay measurement device

WO2021038649 Art A1 4. März 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021038649
Aktenzeichen: EP19942760
Anmeldetag: 23. August 2019
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00G01N23/203G01N23/2206G01N23/2251H01J37/22H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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