Measurement system, method for generating learning model to be used when performing image measurement of semiconductor including predetermined structure, and recording medium for storing program for causing computer to execute processing for generating learning model to be used when performing image measurement of semiconductor including predetermined structure
WO2021038815
Art A1
4. März 2021
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021038815
- Aktenzeichen
- EP19943792
- Anmeldetag
- 30. August 2019
- Veröffentlichung
- 4. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G01B15/00G06T7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
3.840 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.