Substrate with electroconductive film, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device
WO2021039163
Art A1
4. März 2021
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021039163
- Aktenzeichen
- EP20858875
- Anmeldetag
- 13. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 4. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24G03F1/38G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
701 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.