Semiconductor device fabrication method and fabrication apparatus
WO2021039271
Art A1
4. März 2021
Anmelder: OSAKA GAS CO., LTD., KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021039271
- Aktenzeichen
- EP20858392
- Anmeldetag
- 30. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 4. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/31C23C16/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- OSAKA GAS CO., LTD.
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kokusai Electric
Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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