Semiconductor device fabrication method and fabrication apparatus

WO2021039271 Art A1 4. März 2021

Anmelder: OSAKA GAS CO., LTD., KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021039271
Aktenzeichen
EP20858392
Anmeldetag
30. Juli 2020
Veröffentlichung
4. März 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31C23C16/46
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
OSAKA GAS CO., LTD.
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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