Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2021039430 Art A1 4. März 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021039430
Aktenzeichen: EP20856648
Anmeldetag: 13. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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