Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

WO2021039654 Art A1 4. März 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021039654
Aktenzeichen: EP20856123
Anmeldetag: 21. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C63/04C07C309/12C07C309/17C07C381/12C07D211/16C07D211/46C07D217/08C07D327/06C07D333/46C07D335/02C08F12/24C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07C69/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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