Parasitic flow correction method and apparatus

WO2021039665 Art A1 4. März 2021

Anmelder: HITACHI METALS, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021039665
Aktenzeichen: EP20857450
Anmeldetag: 21. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G05D7/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HITACHI METALS, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von