Composition for forming film for lithography, resist pattern forming method, circuit pattern forming method and purification method

WO2021039843 Art A1 4. März 2021

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021039843
Aktenzeichen: EP20856132
Anmeldetag: 26. August 2020
Veröffentlichung: 4. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C211/49C07C211/50C07C215/76C07C255/58C07D233/64C07C217/84G03F7/023G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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