Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, and method for manufacturing vapor deposition mask

WO2021045137 Art A1 11. März 2021

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021045137
Aktenzeichen: EP20861174
Anmeldetag: 3. September 2020
Veröffentlichung: 11. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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