Agent for suppressing/improving bad skin caused by fatigue and/or stress and screening method for agents for suppressing/improving bad skin caused by fatigue and/or stress

WO2021048961 Art A1 18. März 2021

Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021048961
Aktenzeichen: EP19944991
Anmeldetag: 11. September 2019
Veröffentlichung: 18. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: A61K8/9789A61K36/752A61K36/82A61P17/00A61P43/00A61Q19/00C12Q1/37G01N33/15

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHISEIDO COMPANY, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shiseido

Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.

1.957 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Pharma & Biotechnologie

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen