Treatment liquid, kit, treatment liquid production method, substrate cleaning method, and substrate treatment method
WO2021049208
Art A1
18. März 2021
Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021049208
- Aktenzeichen
- EP20862722
- Anmeldetag
- 4. August 2020
- Veröffentlichung
- 18. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D17/08C11D7/06C11D7/08C11D7/10C11D7/26C11D7/32C11D7/34C11D7/50G03F7/00G03F7/32G03F7/40G03F7/42H01L21/027H01L21/304H01L21/306H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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