Compound, resin, composition, resist film, pattern forming method, underlayer film, and optical article
WO2021049472
Art A1
18. März 2021
Anmelder: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021049472
- Aktenzeichen
- EP20863047
- Anmeldetag
- 8. September 2020
- Veröffentlichung
- 18. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G64/00C08G65/34C08G71/04G03F7/022G03F7/11G03F7/20C08G18/32C08G18/67H01L21/027C07D307/62C08G63/40C08G63/52C08G63/64C07C69/732
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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