Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

WO2021049592 Art A1 18. März 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021049592
Aktenzeichen: EP20862810
Anmeldetag: 10. September 2020
Veröffentlichung: 18. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/17C07C381/12C07D317/30C07D317/70C07D317/72C07D321/10C07D327/04C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von