Flow Metrology Calibration For Improved Processing Chamber Matching in Substrate Processing Systems

WO2021050663 Art A1 18. März 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021050663
Aktenzeichen: EP20863973
Anmeldetag: 10. September 2020
Veröffentlichung: 18. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32G01K3/00G01L17/00G01F15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von