Laser module as alignment source, metrology system, and lithographic apparatus
WO2021052790
Art A1
25. März 2021
Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021052790
- Aktenzeichen
- EP20771502
- Anmeldetag
- 4. September 2020
- Veröffentlichung
- 25. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B6/24G02B27/48H04B10/25G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML HOLDING N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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