System and method for generating predictive images for wafer inspection using machine learning

WO2021052918 Art A1 25. März 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021052918
Aktenzeichen: EP20774918
Anmeldetag: 14. September 2020
Veröffentlichung: 25. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G06T7/00G01N21/95G03F1/80G06N3/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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