Substrate cleaning device
WO2021053995
Art A1
25. März 2021
Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021053995
- Aktenzeichen
- EP20866433
- Anmeldetag
- 7. August 2020
- Veröffentlichung
- 25. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B08B1/04B08B3/04H01L21/304H01L21/683G02F1/1333
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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