Substrate for semiconductor device, method of manufacturing substrate for semiconductor device, and method of manufacturing wireless communication device
WO2021054143
Art A1
25. März 2021
Anmelder: TORAY INDUSTRIES, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021054143
- Aktenzeichen
- EP20866445
- Anmeldetag
- 3. September 2020
- Veröffentlichung
- 25. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/12H01L21/28H01L21/285H01L21/3205H01L21/768H01L23/522H01L29/41H01L29/423H01L29/49H01L29/786H05K1/02H05K3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TORAY INDUSTRIES, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toray Industries
Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.
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