Composition, resist underlayer film, method for forming resist underlayer film, method for producing patterned substrate, and compound

WO2021054337 Art A1 25. März 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021054337
Aktenzeichen: EP20866460
Anmeldetag: 15. September 2020
Veröffentlichung: 25. März 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C13/62G03F7/11G03F7/26H01L21/027C07C69/616

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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